多晶硅超水器_超水機(jī)_超水系統(tǒng)。硅片是現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)不可或缺的基礎(chǔ)材料，而在硅片的生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)有許多的污染物質(zhì)干擾產(chǎn)品的質(zhì)量，所以半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)硅片需要進(jìn)行嚴(yán)格的清洗，通過(guò)清洗去除掉表面的污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無(wú)機(jī)物等，否則微量元素的污染會(huì)導(dǎo)致半導(dǎo)體器件失效。

多晶硅是由許多硅原子及許多小的晶粒組合而成的硅晶體。由于各個(gè)晶粒的排列方向彼此不同，其中有大量的缺陷。多晶硅一般呈深銀灰色，不透明，具有金屬光澤，性脆，常溫下不活潑。

多晶硅是用金屬硅(工業(yè)硅)經(jīng)化學(xué)反應(yīng)、提,再還原得到的度材料(也叫還原硅)。目前世界上多晶硅生產(chǎn)的方法主要有改良西門(mén)子法(SiHCl3)、新硅烷法(SiH4)、SiH2Cl2熱分解法、SiCl4法等多晶硅生產(chǎn)工藝。

對(duì)于消毒系統(tǒng)和清洗系統(tǒng)而言有四種類型：低pH值型、高pH值型、高溫消毒型以及低濃度氧化消毒清洗型。單獨(dú)的消毒清洗程序只針對(duì)淡水、濃水以及給水管線而言，消毒清洗的循環(huán)過(guò)程可以獨(dú)立完成，獨(dú)立的循環(huán)程序也可同時(shí)進(jìn)行，從而減少總的使用時(shí)間。由于極水循環(huán)的低清洗流速，大多數(shù)情況下清洗過(guò)程必須同時(shí)與濃水循環(huán)清洗和淡水循環(huán)清洗同時(shí)進(jìn)行。清洗水箱及水泵是必備的(CIP系統(tǒng))?？偣残枰鍡l清洗流水線：兩個(gè)(淡水和濃水)以及三個(gè)出口(淡水出口，給水出口和濃水排放)。

工藝流程：

原水箱→原水提升泵→石英砂過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透→級(jí)間水箱→二級(jí)高壓泵→中間水箱→EDI提升泵→微孔過(guò)濾器→EDI系統(tǒng)→EDI水箱→拋光混床→用水點(diǎn)

設(shè)備特點(diǎn)：

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