名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

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步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

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加工方式
代料代工加工
質(zhì)量認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)
CCC、CQC
加工設(shè)備
除臭設(shè)備

離子氧-光催化復(fù)合除臭設(shè)備 低溫等離子除臭設(shè)備 環(huán)保設(shè)備代工示例圖1

廢氣處理工藝

廢氣處理工藝確定

由于廢氣形成的大部分組分為有機(jī)污染物質(zhì)。離子法處理工藝具有氧化性強(qiáng),能夠通過有效的分解空氣中的有機(jī)物質(zhì)來起到除臭的作用,處理過程極快,投資費(fèi)用省,操作簡便,除臭效果顯著,除臭效率可以達(dá)到80以上。

廢氣處理工藝簡介

廢氣通過風(fēng)機(jī)抽吸進(jìn)入收集管道進(jìn)行收集,經(jīng)過收集的廢氣進(jìn)入離子除臭裝置,以氧化離子作為氧化劑,它幾乎毫無選擇的對(duì)廢氣中大量有機(jī)污染組分進(jìn)行氧化分解;且整個(gè)分解過程極快,只需要短暫的停留時(shí)間即可以分解掉有機(jī)污染組分,該處理設(shè)備可謂處理工藝的核心部分,經(jīng)除臭設(shè)備處理后的氣體已經(jīng)能夠達(dá)標(biāo)外排。

工藝原理

離子法廢氣處理系統(tǒng)合成主要包含主反應(yīng)器,光觸媒反應(yīng)導(dǎo)入裝置。廢氣經(jīng)過收集系統(tǒng)收集后進(jìn)入離子催化氧化廢氣處理合成系統(tǒng),離子反應(yīng)導(dǎo)入裝置對(duì)主反應(yīng)器產(chǎn)生離子,在其內(nèi)部的價(jià)電子被激發(fā)跨過禁帶躍入導(dǎo)帶,生成的電子空穴被導(dǎo)入主反應(yīng)器內(nèi),并擴(kuò)散到反應(yīng)器內(nèi)過濾板的二氧化鈦表面上,穿過界面與吸附在過濾板上的物質(zhì)發(fā)生氧化還原反應(yīng)。其空穴能量7.5eV,氧化電位+3.0V,具有極強(qiáng)的氧化能力,能夠氧化有機(jī)化合物,達(dá)到完全礦化的程度,生成二氧化碳、水和無機(jī)物。處理后的廢氣繼續(xù)進(jìn)入水洗塔,與水反應(yīng)生成羥基自由基,電子具有還原性,能與氧分子發(fā)生還原反應(yīng)生成過氧自由基,這些自由基具有很強(qiáng)的氧化能力,也能夠氧化有機(jī)物。從而使得廢氣達(dá)到完全的凈化,達(dá)標(biāo)排放。

離子體是不同于氣態(tài)、固態(tài)、液態(tài)的第四態(tài)物質(zhì),由高能電子、正負(fù)離子、自由基(OH、H、O、O3等)和中性粒子等組成。氣體經(jīng)過離子處理裝置的反應(yīng)器區(qū)域時(shí),在高能電子和自由基強(qiáng)氧化等多重作用下,氣體中的有機(jī)物分子鏈被斷開,發(fā)生一系列復(fù)雜的氧化還原反應(yīng),生成CO2、H2O等無害物質(zhì),正負(fù)離子可以空氣清新。另外,借助離子體中的離子與物體的凝并作用,可以對(duì)小至亞微米級(jí)的細(xì)微粒物(0.13微米)進(jìn)行有效的收集。

離子除臭裝置的特點(diǎn)

1、脈沖電壓高達(dá)50KV,電子能量高達(dá)7ev;

2、耗電低220V/110W;

3、模塊化組合設(shè)計(jì),現(xiàn)場安裝簡便;

4、凈化效率95%以上;

產(chǎn)品推薦
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