名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

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步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

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原子吸收光譜儀作為測定痕量金屬元素的重要手段,具有靈敏度高、準(zhǔn)確度好、分析速度快等優(yōu)點。在地質(zhì)、冶金、材料、醫(yī)藥、環(huán)境、化學(xué)等各個領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,現(xiàn)正成為一種非常重要的儀器分析方法。 作為一家的分析儀器制造廠商,多年來致力于原子吸收光譜儀的研制開發(fā),于1997年推出了國內(nèi)自動化水平較高的TAS-986型原子吸收分光光度計,該型儀器采用全中文的Windows操作軟件,儀器的所有控制均有計算機(jī)完成,大大降低了分析人員的操作難度,避免了人為地操作誤差,了高分析精度。在1997年的BCEIA會上獲得了金獎。 主要特點 高度自動化   一體化的火焰原子化器與石墨爐原子化器的結(jié)構(gòu)設(shè)計,實現(xiàn)了火焰與石墨爐原子化器的自動切換;   采用八燈自動切換轉(zhuǎn)塔,預(yù)先優(yōu)化設(shè)置空心陰極燈的工作條件;   自動設(shè)置燃?xì)饬髁?,選擇元素分析助燃比;   自動設(shè)定火焰高度及前后的位置,選擇量佳分析條件;   使用氘燈扣背景方式時自動切入半透半反鏡裝置;   自動控制波長掃描,自動尋峰;   自動更換光譜帶寬,0.1nm、02nm、0.4nm、1.0nm、2.0nm五檔可供選擇;   自動調(diào)整負(fù)高壓、燈電流、兩路光平衡;   自動流量設(shè)定.自動點火.自動熄火保護(hù)。 先進(jìn)的石墨爐設(shè)計   石墨爐體的設(shè)計與眾不同。采用先進(jìn)的橫向加熱石墨爐技術(shù),實現(xiàn)了石墨管的溫度均勻一致,減少了化學(xué)干擾和記憶效應(yīng),同時降低了原子化溫度。不但提高了原子化效率,而且延長了石墨管的使用壽命,提高了分析準(zhǔn)確度。 石墨爐電源采用計算機(jī)控制下的功率控溫,原子化階段可選擇普通升溫和光控較大功率升溫。同時可對內(nèi)氣流量進(jìn)行4種選擇組合。 采用熱解涂層LVOV平臺石墨管。 完善的安全措施    火焰監(jiān)視器:用傳感器隨時監(jiān)測火焰的變化,當(dāng)由于意外原因停電或操作錯誤導(dǎo)致火焰熄滅時,儀器會自動關(guān)閉乙炔氣并提示報警。 乙炔泄露報警:隨時監(jiān)測儀器內(nèi)及工作環(huán)境的乙炔濃度,一旦超過警戒濃度,即時報警,同時聲音提示。 異常壓力監(jiān)視器:使用空氣—乙炔火焰分析時,空氣壓力監(jiān)視器隨時監(jiān)測空氣壓力變化,當(dāng)出現(xiàn)異常情況時,自動切斷乙炔氣,安全熄火。 完善的石墨爐保護(hù)措施:儀器同時監(jiān)測保護(hù)氣壓,冷卻水流量和石墨管斷裂,當(dāng)出現(xiàn)以上任何異常波動,立即停止加熱,同時提示報警。 可選配火焰自動進(jìn)樣器和自動控溫循環(huán)冷卻水裝置   火焰自動進(jìn)樣器可以完成標(biāo)樣、樣品常規(guī)分析條件下的自動進(jìn)樣;   自動控溫循環(huán)冷卻水裝置配合石墨爐型原子吸收分光光度計使用,可將儀器冷卻后的水重復(fù)使用,節(jié)約用水,降低測量成本。 技術(shù)參數(shù) 分光系統(tǒng) 波長范圍 190nm-900nm 單色器 消象差C-T型單色器裝置 光譜帶寬 0.1、0.2、0.4、1.0、2.0nm:五檔自動切換 波長準(zhǔn)確度 ±0.25nm 波長重復(fù)精度 0.15nm 分辨率 優(yōu)于0.3nm 基線漂移 0.005A/30min 性能規(guī)格 特征濃度(Cu) 0.03μg/ml/1% 檢出限(Cu) 0.006μg/ml 燃燒器 金屬鈦燃燒器 精密度 RSD≤1% 噴霧器 玻璃霧化器 霧化室 耐腐蝕材料霧化室 位置調(diào)節(jié) 火焰燃燒器高度及前后位置自動設(shè)定 安全措施 具有多種自動保護(hù)功能 石墨爐分析 特征量(Cd) 0.5×10-12g 檢出限(Cd) 1×10-12g 精密度 RSD≤3% 加熱溫度范圍 室溫~2650℃ 加熱控溫方式 干燥灰化階段功率控制方式 原子化階段采用光控較大功率方式 加熱條件設(shè)定 較大9個程序 斜坡升溫.階梯升溫.較大功率加熱升溫 背景校正 氘燈背景校正 可校正1A背景 自吸背景校正 可校正1A背景 數(shù)據(jù)處理 測量方式 火焰法,石墨爐法,氫化物發(fā)生——原子吸收法 濃度計算方式 標(biāo)準(zhǔn)曲線法(1~3次曲線),標(biāo)準(zhǔn)加入法;內(nèi)插法 重復(fù)測量次數(shù) 1~20次,計算平均值,給出標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 結(jié)果打印 參數(shù)打印,數(shù)據(jù)結(jié)果打印,圖形打印
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