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(1).真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,果如真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
(2)中頻設(shè)備必須加冷卻水,原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動時有一個集膚效應(yīng),電荷會聚集在電導(dǎo)有表面積,這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。
(3).(主要是圓柱靶)為也要用水冷卻?磁控濺射靶在發(fā)射時會產(chǎn)生高溫會使射槍變形,所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。
從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運(yùn)動規(guī)律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定
(4). The cold water machine is a kind of water cooling equipment, can provide constant temperature, cooling water equipment constant current, constant voltage. Its working principle is to inject a certain amount of water in the water tank, the water cooling refrigeration system, the cooling water pump will be sent to the cooling equipment, cooling water takes heat away after the temperature back to the water tank, the cooling effect. The cooling water temperature can be adjusted automatically according to the requirements, long term use can save water.
The cold water can control the temperature of vacuum coating machine, in order to guarantee the high quality plating. If no water cooling machine cannot make the vacuum coating machine can achieve high accuracy, efficient the purpose of controlling the temperature, because of the influence of natural water and water cooling are inevitably influenced by natural temperature, and the way of control is very unstable.
Cold water machine refrigerating system with fully independent, will not be affected by temperature and the influence of environment, the water temperature at 5 ℃ ~ 30 ℃ adjusting control, so it can achieve high accuracy, efficient the purpose of controlling the temperature, water circulation system of cold water machine with independent
真空鍍膜機(jī)專用冷水機(jī) 冷凍機(jī) 簡要介紹:
(1).真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,果如真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差?,F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
(2)中頻設(shè)備必須加冷卻水,原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動時有一個集膚效應(yīng),電荷會聚集在電導(dǎo)有表面積,這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。
(3).(主要是圓柱靶)為也要用水冷卻?磁控濺射靶在發(fā)射時會產(chǎn)生高溫會使射槍變形,所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。
從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運(yùn)動規(guī)律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定
?。?). 冷水機(jī)是一種水冷卻設(shè)備,能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設(shè)備。其工作原理是先向機(jī)內(nèi)水箱注入一定量的水,通過制冷系統(tǒng)將水冷卻,再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設(shè)備,冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱,達(dá)到冷卻的作用。冷卻水溫可根據(jù)要求自動調(diào)節(jié),長期使用可節(jié)約用水。
冷水機(jī)能控制真空鍍膜機(jī)的溫度,以鍍件的量。如果不配冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到高精度、率控制溫度的目的,因為自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響,而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。
冷水機(jī)具有完全獨(dú)立的制冷系統(tǒng),絕不會受氣溫及環(huán)境的影響,水溫在5℃ ~30℃ 范圍內(nèi)調(diào)節(jié)控制,因而可以達(dá)到高精度、率控制溫度的目的,冷水機(jī)設(shè)有獨(dú)立的水循環(huán)系統(tǒng)
真空鍍膜原理:真空鍍膜就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā),使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上,從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤。首先將卷筒狀的待鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)的放卷站上,將薄膜穿過冷卻輥(蒸鍍輥)卷繞在收卷站上,用真空泵抽真空,使蒸鍍室中的真空度達(dá)到6×10-2pa以上,