該系列設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細(xì)化。膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜，多層復(fù)合膜等。經(jīng)公司技術(shù)人員多年研發(fā)，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，開發(fā)出整套PROPOWER系列計算機(jī)自動控制系統(tǒng)，使鍍膜膜層附著力致密度、從復(fù)度一致性好等特點，解決了人工手動操作復(fù)雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機(jī)殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金剛石膜（DLC）。 1. 磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁場擴(kuò)展到接近工件表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細(xì)膩又增強(qiáng)了表面光澤度。 2. 電弧等離子體蒸發(fā)源性能，在優(yōu)化陰極及磁場結(jié)構(gòu)鍍膜時可在 30A 電流下工作，鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生原子擴(kuò)散，又具有離子束輔助沉積的特點。 參數(shù)說明： 型號 JTL-800 JTL-1000 JTL-1250 真空室尺寸 Φ800Χ1000mm Φ1000Χ1000mm Φ1250Χ1100mm 鍍膜方式及主要配置 六個多弧靶 一套圓柱靶 一套平面矩形磁控濺射靶 八個多弧靶 一對孿生（中頻）磁控濺射靶 一套平面矩形磁控濺射靶 十二個多弧靶 二套平面矩形磁控濺射靶 一對孿生（中頻）磁控濺射靶 電源 電弧電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、燈絲電源、脈沖電源、線性離化源 工藝氣體控制 質(zhì)量流量計 電磁陶瓷閥 真空室結(jié)構(gòu) 立式側(cè)（單）開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷 真空系統(tǒng)組成 分子泵 羅茨泵 機(jī)械泵（5.0Χ10-5 pa），擴(kuò)散泵 羅茨泵 機(jī)械泵（ 5.0Χ10-4pa） 工件烘烤溫度 常溫到 500度可調(diào)可控(PID控溫)，輻射加熱 工件運(yùn)動方式 公自轉(zhuǎn)變頻調(diào)速， 0-20轉(zhuǎn)/分 測量方式 數(shù)顯復(fù)合真空計：測量范圍從大氣至 1.0Χ10-5pa） 控制方式 手動 /自動/PC/PLC HMI/PC四種控制方式可選 備注 以上設(shè)備可按客戶實際產(chǎn)品及特殊工藝要求設(shè)計訂做