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三、電鍍冷水機在低溫拋光工藝中的應用
①低溫拋光槽中低溫拋光劑濃度控制為總酸25—30g/l，較低≥15 g/l；
?、趻伖獠蹨亟?jīng)過電鍍專用冷凍機組控制在20-30℃不得低于20℃，拋光時間90—200s；
③提架傾斜，滴凈殘液后，迅速放入清水槽中漂洗，經(jīng)兩道水洗后迅速放入氧化槽氧化，在水槽中停留時間不應大于3分鐘；
④低溫拋光材料在拋光前不得進行其它方式的處理，也不能將其它槽液帶入拋光槽中。
四、除油工藝；
?、僭谑覝厮嵋褐羞M行，時間2—4分鐘，H2SO4濃度140-160 g/l；
?、谔峒軆A斜滴凈殘液后，放入清水槽中清洗1-2分鐘。
五、電鍍冷水機在磨砂（酸蝕）工
①工藝參數(shù)：游離NaOH 30-45 g/l，總堿50-60 g/l，堿蝕劑5-10 g/l，AL3 0-15 g/l，溫度35-45℃，砂料堿蝕時間30-60秒；
?、谔峒軆A斜，滴凈溶液后迅速放入清水槽中清洗干凈；
③檢查清洗后的表面質(zhì)量，當無腐蝕斑紋，無雜物、凝附表面現(xiàn)象，即可進入出光工序。
七、出光工藝
?、俟に噮?shù)：H2SO4濃度160-220 g/l,HNO3適量或50 g/l -100 g/l，溫度室溫,出光時間2-4分鐘；
?、谔峒軆A斜滴凈殘液后迅速放入清水槽中1-2分鐘，再放入第二清水槽1-2分鐘；
?、蹆纱吻逑赐戤吅?，應鉗緊扎架上的鋁線，以氧化過程的良好接觸。普通料鉗緊扎架一端鋁線，著色料、電泳料應鉗緊扎架的兩端鋁線。
八、電鍍冷水機在氧化工藝中的應用
①工藝參數(shù)：H2SO4 濃度160-175 g/l，AL3 ≤20 g/l，電流密度1-1.5A/dm，電壓12-16V, 氧化槽溫度經(jīng)過鋁氧化冷水機控制在18-22℃,按計算公式求得通電時間。氧化膜規(guī)定：銀白料3-4μｍ,白砂4-5μｍ，電泳7-9μｍ;
