高真空光學(xué)多層鍍膜機采用e型電子槍蒸發(fā)源，可鍍各種高熔點金屬和氧化物材料，可制備多種光學(xué)鏡片，眼鏡片鍍增透膜,濾光片，IR-CUT等，配有光學(xué)膜厚控制系統(tǒng)，電控系統(tǒng)采用PLC控制，可實現(xiàn)手動、半自動和自動3種方式，是光學(xué)儀器、激光工業(yè)、眼鏡行業(yè)及照相行業(yè)等必需設(shè)備。 性能 型號 SXL-GLD-900 SXL-GLD-1100 SXL-GLD-1300 鍍膜室尺寸 ￠900×H1100MM ￠1100×H1250MM ￠1300×H1490MM 工裝夾具 拱型單工件盤，更大限度滿足客戶對均勻性的需要，旋轉(zhuǎn)5~30r/min,無級變速 1、拱型單工件盤、滿足客戶對均勻性的需要，旋轉(zhuǎn)5~30r/min,無級變速。 2、拱型三工件盤 真空系統(tǒng) 擴散泵KT-600,羅茨泵RTO-300,機械泵2X-70,維持泵2X-8,管路為304不銹鋼 擴散泵KT-800,羅茨泵RTO-600,機械泵2X-70,維持泵2X-8,管路為304不銹鋼 擴散泵KT-6300,羅茨泵RTO-300,機械泵2X-70,維持泵2X-15,管路為304不銹鋼 　 極性真空:優(yōu)于6X10-4Ma 　 配置防湍流裝置，安全互鎖設(shè)計，手動、自動可選 加熱系統(tǒng) 發(fā)熱管上加熱方法，PID控制，較高350℃±1.5℃ 工作氣體充氣 壓強儀或是手動微調(diào)充氣閥 真空離子轟擊 直流3KV,0.6KW棒狀陰極（用于鍍膜前自行對工件進行清洗）和氣體離子源選配 蒸發(fā)源（選配） 1、電子槍：10KW、高壓穩(wěn)定。定位掃描、束斑聚焦性好、定位精度高、掃描再現(xiàn)性好。 2、坩堝：六穴￠35*20坩堝或八穴￠35*20 離子源（選配） 霍兩離子源：用于電鍍前清洗或電鍍過程進行輔助鍍，有利于提高膜層折射率、牢固率、提高膜層致辭密門頭性、附著力。（功率按產(chǎn)品選擇） 鍍膜控制系統(tǒng)（選配） 1、晶控器：可儲存 1-99層自動鍍膜過程，99種程序數(shù)據(jù)，精度±1A°固定誤差。 2、光控器：采用多波長的全光譜終點分析技術(shù)，通過對監(jiān)控片370-870mm的透射率（或反射率）曲線分析來判定膜層，控制精度高；也可采用單波長控制，自動控制的手動控制。附加Caie3.5膜系計算軟件，一體化程度高。 3、光控器配合晶控器能滿足高精度、高重復(fù)性的鍍膜要求，與上位機配合可以實現(xiàn)自動控制 4、國產(chǎn)光控器：波長330-870NM可調(diào)，精度可達到±1.5NM