名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進入虎易名片小程序,使用微信授權登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產品“同類優(yōu)質商家”欄目下,即開啟名片曝光服務,服務費用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關于曝光服務

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此設備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子(靶材)離化沉積在基材上(物理氣相沉積PVD)和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化,對基材、手機殼等塑料表面進行金屬化、利用特定薄膜涂層實現(xiàn)產品不導電和電磁屏蔽的作用,以滿足現(xiàn)行手機的高端電子產品制造行業(yè)標準; 設備集中了等離子體處理,高端陰極磁控濺射,、電阻蒸發(fā)鍍膜裝置,大裝載量轉架和自動化控制技術,工作、重復性一致性良好、沉積速率高快,附著力好,膜層品質細膩等,鍍制的薄膜致密硬度高,磨擦系數(shù)低,可保持原有工件表面光潔,具有韌性好,不易破裂脫落。設備實現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制。在基材表面利用真空鍍膜方法進行涂層,具有生產成本低、產品合格率高、綠色環(huán)保等特點,主要適用于電腦、手機、高端工業(yè)(家用)電子電器、航空等領域,,可鍍制復合金屬膜、合金膜、透明(半透明)膜、不導電膜、電磁屏蔽膜及特殊膜層等。 型號 真空室尺寸 JTZ-1000 JTZ-1200 JTZ-1300 JTZ1400 ¢1400×1400MM ¢1200×1500MM ¢1300×1800MM ¢1400×1800MM 制膜種類 金屬膜、半透明膜、不導電膜、電磁屏蔽膜、介質膜等 電源類型 電阻蒸發(fā)電源、直流磁控電源、射頻電源 濺射及電極結構 圓柱磁控靶、平面矩形靶、孿生靶、蒸發(fā)電極 真空室結構 立式雙開門、立式單開門、后置抽氣系統(tǒng)/臥式單開門、側置抽氣系統(tǒng) 極限真空 4.0×10-4PA 真空系統(tǒng)組成 擴散泵 羅茨泵 機械泵 維持泵 抽氣時間 從大氣抽至8.5×10-3PA,小于或等于15分鐘 工件運動方式 公自轉/變頻調速 控制方式 手動/自動一體化式,觸摸屏 PLC 備注 以上設備可按客戶實際及特殊工藝要求設計訂做
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