名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

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步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

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  西瓜嫁接育苗人員需要自己決定需要控制多少環(huán)境。如果溫室面積不大,用一個(gè)恒溫器和時(shí)鐘即可。然而,如果溫室面積大于800平方米,內(nèi)有多個(gè)區(qū)域,則需要用計(jì)算機(jī)來控制。一般育苗溫室越大,需要控制的越復(fù)雜、越靈活,則越需要計(jì)算機(jī)。

  要知道需要控制什么和怎樣控制,是用計(jì)算機(jī)環(huán)境控制系統(tǒng)的關(guān)鍵。必須了解系統(tǒng)如何工作和如何調(diào)整。某些系統(tǒng)比其他系統(tǒng)允許調(diào)整的程序較多。有些計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)可以連續(xù)記錄天氣資料,提供每一個(gè)溫室區(qū)域環(huán)境數(shù)據(jù)持續(xù)記錄,且繪制成圖,提供更快更精確的控制。環(huán)境控制計(jì)算機(jī)可以容易地處理晝夜溫差、降低濕度、施用二氧化碳、遮陰、通風(fēng),同一時(shí)間多區(qū)域控制等。

  1、溫度影響8424西瓜苗的光合作用、呼吸、酶活性、水和養(yǎng)分吸收。在溫度從10℃增加到29℃時(shí),莖和根生長相應(yīng)的增加。每一種植物的生長有其最適溫度,這個(gè)溫度不同于開花的最適溫度。在溫度保持在線形范圍內(nèi),葉片的展開速度受嫁接西瓜苗生長日平均溫度的影響。晝夜溫差可用于控制植物節(jié)間長度。溫度與光、二氧化碳和養(yǎng)分相互作用控制著嫁接西瓜苗的生長。

  2、光質(zhì)對植物形態(tài)影響是由紅光和紅外光的比例來決定。光照時(shí)數(shù)或光周期控制開花。光強(qiáng)通過光合作用影響8424西瓜苗的生長和產(chǎn)量。葉片光合作用的光飽和點(diǎn)大約是32280lx。遮陰可造成8424西瓜嫁接苗徒長。光量也影響植物的光合作用、生長、產(chǎn)量和光中性植物的開花。來自于光合作用的碳水化合物的優(yōu)先分配關(guān)系首先是花和種子,莖次之,根位居第三。高壓氣體放電燈,如高壓鈉燈,在低自然光和長夜地區(qū)是主要補(bǔ)光設(shè)施。

  3、嫁接西瓜苗對高濃度二氧化碳的反應(yīng)大于正常水平。溫室注入二氧化碳的時(shí)間是在第1個(gè)真葉出現(xiàn)時(shí),濃度為600~1200mg/L。二氧化碳濃度增加與溫度、光照、濕度和養(yǎng)分等相互制約。

  4、濕度控制著8424西瓜苗的蒸發(fā)和蒸騰速度。高濕度引起植物徒長,Ca吸收減少,易造成植物生長柔弱。

  5、小型育苗溫室環(huán)境控制包括恒溫器控制和邏輯模擬控制系統(tǒng)。對大于800平方米的溫室,應(yīng)使用環(huán)境控制計(jì)算機(jī)。



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