名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進(jìn)入虎易名片小程序，使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù)，服務(wù)費用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁下，因此當(dāng)企業(yè)使用收費模板時，曝光服務(wù)將自動失效，并停止扣除服務(wù)費。

<

返回首頁

產(chǎn)品分類 更多>>

單晶片清洗：大直徑晶片的清洗采用上述方法不好其清洗過程的完成，通常采用單晶片清洗法，其清洗過程是在室溫下重復(fù)利用DI-O3/DHF清洗液，臭氧化的DI水（DI-O3）產(chǎn)生氧化硅，稀釋的HF蝕刻氧化硅，同時清除顆粒和金屬污染物。隨著微粒和金屬污染的數(shù)量級逐漸減小，以及對這方面的污染控制非常有效，現(xiàn)在更多注意的是有機污染和表面狀態(tài)相關(guān)問題。用簡單的燈清洗法可以把有機污染從Si表面除去。此外，應(yīng)特別注意溶解在水內(nèi)和氣相的臭氧在控制有機污染中的作用。清洗的注意事項：(1)設(shè)備運行時，腔體內(nèi)必須放卡塞,否則由于平衡破壞造成設(shè)備損壞或精度降低；(2)晶片必須均勻放置在卡塞內(nèi)，盡量首尾重力平衡；(3)卡塞放置在腔體內(nèi)時，片子正面應(yīng)朝向觀察窗一側(cè)；(4)設(shè)備運行中不得試圖打開密封門蓋，否則會造成人體傷害或機器損壞。
產(chǎn)品推薦
“半導(dǎo)體清洗公司|半導(dǎo)體清洗|蘇州晶淼半導(dǎo)”信息由發(fā)布人自行提供，其真實性、合法性由發(fā)布人負(fù)責(zé)。交易匯款需謹(jǐn)慎，請注意調(diào)查核實。