雙面拋光機(jī)研磨機(jī)
磨盤直徑:270*110*20MM
較大加工:60MM
加工件平面度:0.002MM
游星輪:50MM
游星輪數(shù)量:6個
薄研磨:0.035MM
主機(jī)功率:研磨:0.75MM 拋光:1.1MM
磨盤轉(zhuǎn)速:0-60
砂泵功率:0.09
流砂形式:循環(huán)或點滴
外形尺寸:650*800*1700MM
重量:560KG
適用于鐵氧體,高頻晶片,硅片,石英晶體,玻璃,陶瓷,藍(lán)寶石,密封件雙面拋光或研磨
主要用途:
廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、不銹鋼,光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
工作原理:
本平面拋光機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋材料放于研磨盤上,研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動,修正輪帶動工件自轉(zhuǎn),重力加壓的方式對工件施壓,工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦,來達(dá)到研磨拋光目的。
特點:
1.采用間隔式自動噴液裝置,可自由設(shè)定噴液間隔時間。
2. 該拋光機(jī)工件加壓采用氣缸加壓的方式,壓力可調(diào); 拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無料紋、無麻點、不塌邊、平面度高等特點。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002;平面度可控制在