工廠低價(jià)轉(zhuǎn)讓4臺(tái) 85-9成新宇晶9B 13B 雙面研磨拋光機(jī)
主要用途:本機(jī)主要適用于硅片、石英晶片、光學(xué)晶體、玻璃、寶石、鈮酸鋰、砷化鉀、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。
產(chǎn)品規(guī)格
1、研磨盤直徑(MM):φ622×φ218×25
2、最大理想研磨直徑(MM):φ160
3、加工件平面平行度:0.15U(φ10)
4、游輪參數(shù):英制DP12,Z=108
5、游輪數(shù)量:5個(gè)
6、最小研磨厚度:0.1mm(φ10)
7、主機(jī)功率:4KW(研磨)5.5KW(拋光)
8、下研磨盤轉(zhuǎn)速(rpm):0~60
9、砂泵功率:120W
10、流砂形式:循環(huán)或點(diǎn)滴
11、設(shè)備外形尺寸(MM):
1000×1350×2200
12、重量(KGS):~2200
歡迎來廠看機(jī) 東莞市茶山鎮(zhèn)茶南路15號(hào) 宏誠(chéng)光學(xué) 楊小姐13723521401 18103045976